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	線上研討會

主題： 微影研討會：從航空的發展看微影技術之過去和未來　 觀看次數： 11122

主講人：林本堅資深處長

地址：新竹

主辦單位：亞格數位股份有限公司

時間： 2007/4/3

微影製程技術在IC製造中一直扮演著舉足輕重的角色，隨著IC產品技術需求的提升，微影技術也需不斷地提高解析度以製作更微小的特徵尺寸，IC的密度越高，操作速度越快、平均成本也越低，因此半導體廠商無不絞盡腦汁要將半導體的線寬縮小，以便在晶圓上塞入更多電晶體。台積電技術發展處資深處長，也是以193奈米浸潤式微影技術（Immersion Lithography），改寫全世界半導體微影藍圖的林本堅博士，以「從航空的發展看微影技術之過去和未來（Present and Future Lithography： Learning from the History of Aviation）」為題，與與會者分享心得。

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