高密度電漿蝕刻設備 •系統特色獨家設計之 ICP 特殊結構及真空系統， 可在寬廣的壓力範圍（1-400 mTorr）下，產生密度高（1011∼1012 ion/cm3）且均勻之電漿源，有利於提高蝕刻粒子的 mean-free-path， 而達......

系統特色卡匣式獨家設計之特殊結構，一次可處理50 片 2 吋晶圓，乾式 製程提供高效率、高品質、低營運成本之光阻去除能力，並解決濕製程 環保問題，適合 2 ∼ 12 吋各種晶圓的製造。 •應用 1. 移除晶圓表面上 之光阻 (Photoresi......

公司擁有先進的鎢、鉬及合金製品生產線。產品綜合性能優良，被廣泛 地用於冶金加工、電子、半導體、玻璃纖維、電真空器件等。