代理 GEORG FISCHER PVDF-STANDARD PVDF-HP 等工業塑材各類管閥組及管路焊接機代理 SIMONA PP. PE.CPVC 等工業塑材.各類管閥組 ASV PP.CPVC. PVDF-HP等工業塑材類管閥組代理 Pent......

Cede-200電漿輔助化學氣相沉積系統是套可升級支援200mm單晶圓、 可搭配多反應室的先進電漿介電質薄膜沈積製程設備，此系統可應用在 製作高均勻性(<3%)、高緻密性的氮化矽(SiNX)、氧化矽(SiO2)及碳化矽 (SiC)等高品質薄膜沉......

key feature of Celsior is its efficiently designed and innovative chamber, which offers increased throughput resulting in l......

The RVP-550™ vertical thermal flexible batch reactor for 300-mm wafer processing is designed for process capability a......

The RVP-300plus™ vertical batch furnace delivers superior process results and optimized throughput providing the lowe......

AIXTRON's mass production systems are based on the planetary concept (Planetary Reactor), which was developed by Philips an......

The requirement to manufacture high quality OLED products with high productivity and at low cost has driven the design of o......

適用於LED業界量產型設備（111Pcs-195Pcs ）。 達到精准的膜厚均勻性控制（3%以內）。 最佳化蒸鍍腔及排氣系統設計，可有效降低Cycle time，並提升材料利 用率（提高20%）。 針對於LED wafer 所特殊......

SAMCOs PD-220N is highly flexible and supports a wide range of applications, from cutting edge R&D to low volume manufactur......

All 6500 Series Plasma Etch systems feature either Tegal's patented dual-frequency HRe‾™ CCP or Spectra™ ICP pr......

The Tegal 980ACS™ Series extends the most durable and most reliable non-critical plasma etch tool in the semiconducto......

The Tegal 900ACS™ Series combines a state-of-the-art Advanced Control System with the most durable and most reliable ......

The gas systems are available for all commonly used atmospheric and sub-atmospheric process applications utilizing diffus......

CVD的分类与如下过程有关：AP（Atmospheric Pressure）大气压， LP（Low Pressure)低气压 PE (Plasma Enhance)增অ......

P100C為一單反應腔型式，具有沉積SiO2, SiNx, SiOxNy, a-SixHy 等介 電質及多晶系薄膜功能之電漿輔助化學氣相沉積設備(PECVD)。此系統 除可提供低溫CVD製程需求，並具有良好之鍍膜品質，製程良率再現性 佳，成膜速......

The chemical distribution systems of AP&S are designed for a supply of wet process systems with ultra high-purity chemicals......

廢氣從頂部灌入燃燒反應室﹐通過化學反應﹐例如﹕氧化､縮減和燃 燒﹐將有毒和易燃氣體分解﹐同時反應室內壁的流動氣體有效群組織微粒 的沉淀和對反應室的腐蝕。 經燃燒後的廢氣進入一個大容量濕洗裝置﹐將可溶性物質充分與水溶 解﹐不溶於水的微粒下沉至底......

有機物體 (COD/BOD5), 固體(可沉淀的/可過濾的物質)﹐以及氮氣化合 物(氨, 亞硝酸鹽) 的消除。 低﹐高或中等濃度廢水的密集處理。處置或回圈之前的廢水處理。

美國NANOMASTER公司PECVD(等離子增強化學氣相沉積)系統能夠沉 積高品質SiO2薄膜､Si3N4薄膜､類金剛石薄膜､硬質薄膜､光學薄膜 等。可選用射頻（RF）､空陰極高密度等離子體(HCD)源､感應耦合等 離子體（ICP）源。該公司......

德國愛司強AIXTRON AG公司產品Tricent AVD®，原子氣相沉積系統，設計用於半導體原子層等級的薄膜沉積，特殊的Triject®藉由精確至微秒等級的micro injection裝置，可將每一次pulse精確控制其沉積厚度......

Vector Express的電漿輔助化學氣相沉積平台，能讓薄膜製程技術延伸到45奈米或更小節點。使用SmartSoak製程特色，Vector系統的多平台連續製程架構，能個別獨立控制晶圓加熱和薄膜沉積步驟。在薄膜開始沉積時，可以讓晶圓溫度更穩定和更一......

TurboDisc K系列金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)氮化鎵(GaN)平台定位在高亮度藍和綠發光二極體(LED)及藍光雷射的產製。K300版本機型採用了Veeco公司所設計，能適用於未來反應腔體技術的GaNzilla II型之可調架構的反應腔體......