簡述優點如下： 1. IPA在液態下操作,無IPA蒸汽遇熱爆炸危險 2. 晶舟與 晶片在清洗過程中不移動，無破裂之虞 3. 超細孔徑的N2及IPA的過濾子 4. PEEK專利吹烘乾方式，確保潔淨度 5. In-situ的去離子化( Wafer ......

純水水質監控系統係指超純水處理過程中對每個處理環節作品質檢驗量 測工作。針對工廠用純水、超純水提供各等級Particle、 TOC、OD、 Silica、PH、Na+ 、conductivity...等連續式監測系統統作數值量測 很高興您介......

The EVG301 employs one cleaning station, which cleans wafers and masks using standard DI-water cleaning, megasonic or brush......

保清潔劑：利用專用網版清潔劑洗淨網版上的殘留物質。通風設備的設 計，增加工作環境的安全性。 利用特殊的傾斜設計，藥液噴洗、超音波的振蕩、水洗淨及高回轉速之 脫水及烘乾，可以提高網版的清淨度。 超音波的振蕩原理可以洗淨版面微小間隙的油墨效果佳。......

In direct response to customer input, the MAGELLAN® System sets new standards in immersion technology. Shorter cycle......

From FSI International, the world’s leader in batch spray processing, the ZETA® System offers the ultimate performance ......

Some leading IC manufacturers climb the yield curve faster than others, and one reason for their success is the ANTARES®......

New 300mm UHF-ECR Plasma Etch System. New Silicon Etch System for improved WtW and WiW CD control targeting the 45 and 32......

The SAMCO PC-300 is a parallel-plate plasma cleaning system for the cleaning of products such as plastic microelectronic pa......

-High performance -High levels of cleanliness and high uniformity through single wafer cleaning -Free from cross contamin......

詳細說明： 1. 用超音波清潔的精密噴嘴. 2. 自動開關FOUP. 3. 操作可提供線上與離線的雙模式. 4. 高速旋轉FOUP door來加速度烘乾速度. 5. 透過ejector做真空. 用途： Hugle UP......

Purging pod with N2 or CDA in an ultra-clean environment, Ionizers to remove charge on the surface of pod and also charge ......

► KOWA Series Ceiling Grid Systems ► KOWA Series Panel Systems ► 隔間庫板 ► 高架地板 ► 潔淨室附屬設備(空氣浴......

Industry:IC,LED,MEMS,GaAs Process:Clean,Develop,Etch,Strip Operation:Auto/Semi-Auto/Manual SMIF/FOUP/POD Standard Ha......

主要特徵： • RF 頻率更多的選擇 • 更好的清洗均一性 • 更高的離子濃度 • 可降低使用功率，更安全，省電 • 友好的螢幕顯示和參數控制

制程附生成物潔淨 / 廢油氣捕捉器制程附生成物潔淨 / 廢油氣捕捉器制 程附生成物潔淨 / 廢油氣捕捉器制程附生成物潔淨 / 廢油氣捕捉器

MODEL:SC-2500 -- Spin with high pressure water jet ■ Water pressure 16~80kg/cm2 ■ Max Spin speed 2,000rpm Application......

以線上In-line/ 即時real-time/ 一對多multi-channels方式量測化學液的 濃度, 特殊的設計可一對8點,分別量測不同的混酸或化學液

1.U-Tube 設計: 連通管式專利之U-TUBE設計。不使用pump打入 chemical. 2.U-Tube可精確量測CHEMCIAL量，並用重力方式傳送到儲存槽。無需 再校正。 3.U-Tube方式，毫無困難的施行調整並維持校正之長期......

設備型號: 設備名稱:Auto 200mm Bench 功能說明: 1 ､應用於高階洗淨製程 2 ､應用於高階蝕刻製程 3 ､符合SEMI認證安全規範 適用場合: 1 ､蝕刻製程 2 ､洗淨製程 ......

From the Leader in Ultrasonic Stencil Cleaners! Seven Models to choose from. Semi and fully-automatic models. Filtered dr......

Esanti開發的彈性多腔式單晶圓溼洗平台著眼於新興技術節點的前段(front-end-of-line，FEOL)清洗製程。植基於該公司的旋式處理機技術，此平台的特點包括雙面清洗、高溫處理（最高140℃）、主動式噴射噴灑以及大氣式表面乾燥處理。Esa......

功能 ●各式材料之表面清潔、活化或改質 特色 ●處理均勻性佳，水滴角差異性不超過5度 ●離子能量低，不損傷基板 ●沒有電極及基板的污染 ●專利設計之特殊電漿電極 ●高密度電漿源 ◎電漿效率高、清潔效率高 ◎可控制低的離子能量......

． 清除盲孔、通孔內之膠渣殘膠 ． 表面之活化 ． 高密度電漿源 電漿效率高 可控制低的離子能量 結合化學反應性及物理撞擊性 ． 高均勻性(約±10%) ． 離子能量低，不損傷基板 ......

技術規格（針對LCM） 工作氣體 N2 or CDA；樣品處理完即可關閉氣體 處理速度 75-300 mm/s 處理距離 最大約20 mm 溫度 < 60℃ 掃瞄方式 X-Y掃瞄 機台尺寸(W×D×H) 1000mm x 1100mm ......

功能 ●各式基材在印刷或黏著前之表面活化、改質、接枝、粗糙化或清潔等 應用產業 ●印刷電路板、軟性印刷電路板、光學塑膠、手機、包裝、紡織品、纖維或染整物、塑膠製品等 項 目：規 格 機台尺寸(W×D×H) ：......