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Nexx Cirrus Low Temp CVD ＆ Etch System／Nexx Cirrus低溫CVD及Etch系統
專利的ECR(Electron Cyclotron Resonance by Astex in 1997) 以微波電
子迴旋共振方式的Plasma source可以執行高密度，大區域的低溫CVD
及Etch,且均勻度好的Plasma空間，更是優秀的Uniformity原因。特別適
用於封裝製程。
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