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常壓電漿清洗設備-Sap004
(Si-Plasma)
技術規格（針對LCM）
工作氣體 N2 or CDA；樣品處理完即可關閉氣體
處理速度 75-300 mm/s
處理距離 最大約20 mm
溫度 < 60℃
掃瞄方式 X-Y掃瞄
機台尺寸(W×D×H) 1000mm x 1100mm x 1920mm
重量 310Kg
電源 220V AC，30A
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