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ArF雷射光源
(XLR 600i 90W)
XLR 600i 90W氬氟(ArF)雷射光源是運用在32奈米及以下的技術節點上，以實現浸潤式與雙圖案黃光微影量產的設計。此光源是依賴再循環的環狀架構，以取代傳統的功率放大器級。6kHz XLR 600i能夠改善脈衝能量的穩定性，因此可改善記憶體、邏輯與代工製造商的關鍵成像層所需的關鍵尺寸(CD)的控制。此光源也具有先進的頻寬穩定性技術，也就是能夠輸出可達成可預測性與可重覆性的晶圓級製程控制的優秀頻寬效能。XLR 600i也展現了經由氣體壽命期展延技術，所具有可降低10倍的氣體再充填頻率的特性，因此可提高淨雷射可運用性，以增加晶圓製造的產能。Cymer Inc.

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