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電子束系統
(SB351)
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SB351電子束系統能夠用於寫光罩和直寫應用。利用面型電子束技術，這台可變面型電子束(variable-shaped beam，VSB)系統可以讓寫光罩應用在90奈米的生產和65奈米的R&D領域。變形束系統的解析度小於100奈米可用於先進的光學鄰近效應修正(OPC)和下一個世代(NGL)光罩(1nm寫距)。高精準移動平台可移動310毫米 × 310毫米的範圍，可以應用於300毫米晶圓的直寫應用。SB351相容於SEMI標準光罩尺寸到9英吋和晶圓尺寸到300毫米。結合「飛行直寫式(write-on-the-fly) 」和變速平台移動速率可增加生產效率。此系統有一個數據傳輸和工作操控介面，藉由鄰近效應修正技術來完成圖形數據。
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| 公司名稱 |
Vistec Semiconductor Systems(Shanghai)Co.,Ltd
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| 地址
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828 838 xhang road,pudong rm bd,17f,huadu mansion 200122 shanghai china,中國大陸
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| 郵政編碼 |
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| 電話 |
86-021-50815461
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| 傳真 |
86-021-50810921
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| 移動電話 |
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