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光學疊對量測
(Archer 100)
KLA-Tencor宣佈,透過對該公司光學疊對(Overlay)量測系統的重新設計,Archer 100的準確度改善幅度超過30%以上,達1.4 TMU(總量測不確定度),使用典型生產取樣的系統產量達每小時超過80片晶圓。光學系統經過經過重新設計以期獲得更優的邊對邊匹配和更低的誤差,以符合45奈米嚴格的疊對需求。全新影像系統有助於改善信雜比,適用於低對比薄膜並具有較低畫素失真。「MicroAIM」目標選項透過嚴密地模擬疊對敏感晶片結構的方式,為疊對工具提供更多資訊。全新的照明系統在45奈米及以下線寬的高產能記憶體生產中,提昇了量測精確度及量測能力,並且減少機台所引致的參數改變。

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