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Sez Ipa Dryer／sez Ipa晶片清洗乾燥機
簡述優點如下： 1. IPA在液態下操作,無IPA蒸汽遇熱爆炸危險 2. 晶舟與
晶片在清洗過程中不移動，無破裂之虞 3. 超細孔徑的N2及IPA的過濾子
4. PEEK專利吹烘乾方式，確保潔淨度 5. In-situ的去離子化( Wafer
& IPA) 6. IPA/DI water/電力及製程氣體用量少，節省費用 7. 有單機
及整合在wetbench的機種 8. 清洗時間短 9. 物美價廉 使用領域 非傳統旋
乾(Spin Dryer)的場合 清洗潔淨度要求高 超薄晶片 特殊或貴重晶片,避免
清洗破裂
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