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電漿光阻去除機
系統特色卡匣式獨家設計之特殊結構，一次可處理50 片 2 吋晶圓，乾式
製程提供高效率、高品質、低營運成本之光阻去除能力，並解決濕製程
環保問題，適合 2 ∼ 12 吋各種晶圓的製造。 •應用 1. 移除晶圓表面上
之光阻 (Photoresist Stripping)。 2. 改變晶圓之表面狀態 (Surface
Modification)。
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