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箱式真空鍍膜機
蒸發室： φ1100×1100mm
極限真空度： 3×10-4Pa
恢復真空： 大氣壓至4X10-3Pa點15min
基片烘烤： 最高350℃
輝光放電： 直流3000V，500mA
電阻蒸發源： 5KW
電子束蒸發源： 4KW/8KW/10KW/15KW選配
真空系統： K630擴散泵
膜厚控制： 光學監控/石英晶體監控
耗水： 約40L/min
耗電： 約35KW

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