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脈衝鐳射鍍膜設備PLD400型
鐳射沉積室：高真空環境下完成多種材料沉積
真空獲得及測量系統：提供材料 沉積 工藝條件
電器控制系統：精密控制溫度、轉速
氣體電離系統 ：專利技術設計，保證特定工作需求
雷射光束掃描系統 ：專利技術設計，靈活設定雷射光束掃描軌跡（用戶
可選購）
電腦控制系統 ：自動控制加熱、旋轉、位移及 雷射光束掃描， （用戶
可選購）
脈衝準分子雷射器：（用戶自選購）
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