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PECVD
(NPE-4000/NPE-3000)
美國NANOMASTER公司PECVD(等離子增強化學氣相沉積)系統能夠沉
積高品質SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜
等。可選用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應耦合等
離子體(ICP)源。該公司採用先進技術和穩定可靠的設計為您提供多
方位的服務。

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