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標準型反應離子刻蝕機
本產品通過物理與化學相結合的方法﹐對很細的線條（亞微米以下）進
行刻蝕以形成精細的圖形。本設備具有選擇比較好､刻蝕速度較快､重
復性好､性價比較高等特點。可刻蝕的材料主要有Poly-Si､Si､SiO2､
Si3N4､Au､Al､GaN､GaAs等。
本設備主要用於微電子､光電子､通訊､微電腦械等領域的器件
研發和製造。
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