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電子槍蒸鍍設備
(E850)
E850為一單反應腔型式，具有蒸鍍各種純元素，合金，化合物，互溶材
料而形成介電層及金屬薄膜功能之電子束蒸鍍設備，此系統除可提供較
快成膜速率的需求外，並可獲得高純度和高均勻性之薄膜。觸控式液晶
螢幕及智慧型電腦化操作介面更可讓使用者方便的設定與存取製程參
數。E850最大可適用於6吋晶圓及鍍次微米尺寸薄膜，並對各種蒸鍍材
料均具有高緻密性，實為小型量產或製程開發之最佳選用機型。
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