等離子增強化學氣相澱積系統

CVD的分类与如下过程有关：AP（Atmospheric Pressure）大气压，
LP（Low Pressure)低气压 PE (Plasma Enhance)增强等离子体　
And MO (metals Organic) 有机金属。PECVD (等离子体增强化学气相
分离)通过输送能量给反应气体形成一种薄膜，不是依靠热能而是构成或
者是保持一种化学反应并且利用增强RF辉光放电。与APCVD或者
LPCVD产品工艺比较，这种工艺在低气压中运行同时具有分离速度快的
特点。
PECVD薄膜的形成过程如下：等离子体在低气压形式下形成射频电场，
这样会在放电区域产生自由电子。当自由电子与气体分子碰撞或才被足
够的能量电离化，原子团就形成了。这些原子团通过吸收和移动的过程
形成必要的薄膜。
*应用;
沉积材料：光电子层，膜层、光学膜等