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300mm photoresist dry strip
The Gamma Express 300mm photoresist dry strip system offers
both front-end-of-line (FEOL) and back-end-of-line (BEOL) resist
removal for 65nm and 45nm processing. The system is compatible
with advanced silicide and ultralow-k films, and supports
conventional bulk strip, high-dose implant strip (HDIS), and C4
packaging requirements. The company says throughput is 300wph
for bulk strip applications, and 150wph for HDIS. Novellus Systems
Inc.,

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