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离子迁移谱痕量气体监测分析系统
实时监测气体悬浮沾染已成为半导体加工中不可或缺的一部分。 工
业要求包括快速检测和警报、极低浓度级监测、大范围取样以及对许多
不同气体的灵敏度。 DUV 平版印刷工人对监测氨水、胺以及 N-甲基吡
咯烷酮 (NMP) 特别关注。 已发现这些化合物与化学增强光致抗蚀剂反
应时会产生问题。

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