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濺射台
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高產出率(80 * ∮2”wafers)。 高鍍膜品質再現性與穩定性。 優異的Batch to Batch鍍膜均勻性(<3%)。 可擴充多樣工業用方形靶材(Up to 4 Cathodes of Target)。
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| 公司名稱 |
鴻碩企業有限公司 Great Domain
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| 地址
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民生路二段221號3樓,台灣
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| 郵政編碼 |
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| 電話 |
886-02-22572188#303
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| 傳真 |
886-02-89538399
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| 移動電話 |
886935193612
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| 電子郵箱 |

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| 網站 |
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| 聯絡人 |
沈天龍 /
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